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滲氮多用爐速度快的原因是什么
滲氮多功能爐是在離子的轟擊下進(jìn)行的。位降區(qū)離子的平均能量約為幾十個電子伏特。當(dāng)電壓為800伏時，氮離子的能量是氣體滲氮氨分解時獲得的氮原子的3000倍。高能粒子轟擊產(chǎn)生濺射，從表面與鐵原子分離，碳、氧和合金元素也被轟擊恢復(fù)零件表面的氧化物和碳化物。如果有氫，不僅可以防止大氣中殘留氧的氧化，還可以恢復(fù)零件表面的氧化物，從而獲得活性的清潔表面，使氮反應(yīng)相當(dāng)活躍。
氮的遷移主要是通過鐵原子濺射和氮化鐵沉積來實現(xiàn)的。因此，富氮從一開始就直接接觸到零件表面的α-Fe。如此高速的氮供應(yīng)促使α-Fe很快被氮飽和。幾分鐘后，相應(yīng)的化合物層與氮飽和α-Fe平衡，氮化物層通常需要1~2小時才能出現(xiàn)在氣體滲氮部件表面。
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