多用爐內(nèi)對材料真空熱處理的保護作用

2019-11-25

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對于很多材料在非真空爐內(nèi)加熱除了要生成氧化物、氫化物、氮化物外，非真空電爐中加熱的材料還會吸收氣體并向內(nèi)部擴散，使材料的性能嚴重惡化。這些氧化、還原、脫碳、增碳、吸氣甚至產(chǎn)生腐蝕等弊病，有時在可控氣氛爐或者鹽浴爐中也難以避免，而真空熱處理爐可以在很多時候避免這些弊病。

多用爐廠家

真空熱處理實質(zhì)上是在極稀薄的真空爐氣氛中進行熱處理，真空電爐內(nèi)氣體分析表明，真空爐內(nèi)殘存的氣體是H2Q、O2、CO2以及油脂等有機物蒸汽。真空爐內(nèi)由于這些氣體的含量非常少，其分壓力很低，不足以使被處理的材料產(chǎn)生氧化、還原、脫碳、增碳等反應，所以材料表面的化學成分和原來的表面光亮度可保持不變。

真空爐內(nèi)高真空有兩個特點：

1、高真空氣氛的化學活性極低，因此，利用真空電爐進行熱處理爐時，氣相與固相界面上發(fā)生的反應，如氧化、還原、脫碳、增碳等，不會進行到有影響的程度；

2、多用爐內(nèi)的高真空氣氛使氣體體積增大的變化非常迅速，可使材料放出溶解的氣體或者氧化物發(fā)生分解。正是由于真空爐內(nèi)高真空氣氛的這兩個特點，在真空電爐高真空氣氛中，氧分壓很低，氧化作用被抑制。因此，為了達到無氧化的目的，必須是真空爐內(nèi)氧的分壓力低于氧化物的分解壓力。